年产1000吨三氟化氮项⽬ (特⽓⾏业纯度99,996%)

三氟化氮 (Azot Trifluorek), 化学式NF3, 是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中,三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体,在半导体芯⽚,平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器,通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来实现其应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料,并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剂使⽤.

Trifluorek azotu, wzór chemiczny NF3, jest silnym środkiem utleniającym. Jako ważny przemysłowy gaz specjalny, ma szeroki zakres zastosowań.
W przemyśle mikroelektroniki trifluorek azotu jest doskonałym gazem do trawienia plazmowego; W chipach półprzewodnikowych, płaskich wyświetlaczach, światłowodach, ogniwach fotowoltaicznych i innych obszarach produkcyjnych trifluorek azotu stosuje się głównie jako gaz trawiący plazmę i środek czyszczący wnękę reakcyjną.
Może być również stosowany w wysokoenergetycznych laserach chemicznych, aby osiągnąć swoje zastosowanie poprzez reakcję z wodorem i wyemitowanie dużej ilości ciepła w jednej chwili. Trifluorek azotu jest również stosowany jako paliwo wysokoenergetyczne oraz jako utleniacz i materiał pędny w rakietach wystrzeliwujących.